電子光學(xué)用的超純水設(shè)備
文章作者: 宏森環(huán)保
電子光學(xué)泛指電子試劑、半導(dǎo)體、集成電路芯片加工、硅片清洗、光學(xué)鏡片、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路、光電器件、液晶顯示器屏以及各種高精度線路板等產(chǎn)品的加工，在產(chǎn)品設(shè)備加工的過程中需用到大量的工業(yè)純凈水，如這些工業(yè)純凈水沒能達(dá)標(biāo)不僅會直接影響到產(chǎn)品的使用情況而且還會影響使用壽命，下面了解一下關(guān)于電子光學(xué)用的超純水設(shè)備是一款?
不同的電子工業(yè)用到的純水電阻率要求不同，我國將電子工業(yè)所用的純水分為0.5MΩ/CM、12MΩ/CM、15MΩ/CM、18MΩ/CM四個等級。
對于一些半導(dǎo)體、集成電路芯片、液晶顯示器屏面清洗用水、電子試劑用水等用到的純水，如要求純水水質(zhì)電阻率的要求在18.2兆左右的超純水，則超純水設(shè)備需要進(jìn)行雙級反滲透純化水處理技術(shù)+EDI模塊系統(tǒng)相結(jié)合的形式，水處理流程：
原水箱—前置增壓泵—砂濾器—碳濾器—軟化器—精密過濾器—一級高壓泵—一級反滲透—一級純水箱—二級高壓泵—二級反滲透—二級純水箱—增壓泵—精密過濾器—紫外線殺菌—EDI系統(tǒng)—EDI超純水箱—超純水增壓泵—拋光混床—微孔膜濾器—用水對象。
設(shè)備能根據(jù)工廠每小時所用的純水水量、場地安裝、工藝設(shè)計進(jìn)行定制，在建設(shè)方所提供的相關(guān)技術(shù)資料以及技術(shù)要求做到無需加入任何的藥劑進(jìn)行連續(xù)性制取超純水，且設(shè)備的自動化程度高、操作起來方便、出水穩(wěn)定。
